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[主观题]

现有一块掺杂浓度ND=1016cm2的n-Ge的样品,其厚度d>>Lp,在样品上表面用波长λ=0.75μm,其强度p=4.4×10-3W/cm2

现有一块掺杂浓度ND=1016cm2的n-Ge的样品,其厚度d>>Lp,在样品上表面用波长λ=0.75μm,其强度p=4.4×10-3W/cm2的红光垂直照射,除反射之外,其余全部在表面薄层△d=0.1μm的厚度之内被均匀吸收,产生非平衡载流子△p=△n为小注入。设其量子产额β=1,表面对这种光的反射系数R=40%,光生载流子的寿命τ=1.82×10-3s,电子迁移率μn=2800cm2/(V·s),空穴迁移率μp=700cm2/(V·s),普朗克常数h=6.6×10-34J·s,光速C=3×1010cm/s(如图所示)。

现有一块掺杂浓度ND=1016cm2的n-Ge的样品,其厚度d>>Lp,在样品上表面用波长λ=0.7

试求:室温(300K)下样品光照面和底面之间的开路电压Vx

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第1题
设有一均匀掺杂n-GaAs晶体,其平衡电子浓度为n0,由于介质中某些不均匀件或热扰动使电子浓度产生一增量δn。

设有一均匀掺杂n-GaAs晶体,其平衡电子浓度为n0,由于介质中某些不均匀件或热扰动使电子浓度产生一增量δn。

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第2题
关于BJT的结构特点说法错误的是()。

A.基区很薄且掺杂浓度很低

B.发射区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

C.基区的掺杂浓度远大于集电区掺杂浓度

D.集电区面积大于发射区面积

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第3题
在掺杂半导体中,少子的浓度受()的影响很大。

A.温度

B.掺杂工艺

C.杂质浓度

D.晶体缺陷

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第4题
利用金属一半导体接触,推导非均匀掺杂半导体的掺杂浓度的表达式 并加以讨论和说明。

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并加以讨论和说明。

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第5题
三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()
三极管BJT制作时,通常基区掺杂浓度低;发射区的杂质浓度则很高。()

A.正确

B.错误

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第6题
现有PS-苯溶液,选用甲醇作为沉淀剂进行沉淀分级。溶液浓度为2%时分级效率比溶液浓度为0.5%的分级效率______(

现有PS-苯溶液,选用甲醇作为沉淀剂进行沉淀分级。溶液浓度为2%时分级效率比溶液浓度为0.5%的分级效率______(好、差、相同)。

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第7题
现有不同浓度的KMnO4溶液A、B,在同一波长下测定,若A用1cm比色皿,B用2cm比色皿,而测得的吸光度相同,则它们浓度关系为()。

A . CA=CB

B . CA=2CB

C . CB=2CA

D . 1/2CB=CA

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第8题
使钢材发生“冷脆”的化学成分是()

A.S、O

B.N、P

C.S、N

D.O、P

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第9题
食品添加剂的使用,不应掩盖食品本身或加工过程中的质量问题或以掺杂、掺假、伪造为目的而使用食品添加剂。()
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第10题
已知某废水中Ni的含量约为50μg/mL。现用FAAS法测定其含量,并已知浓度2μg/mLNi的吸光度为0.210。实验室现有200
μg/mL Ni的标准液和50mL的容量瓶,请设计用标准曲线法测定该废水中Ni的含量并写出计算公式。
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第11题
已知某土壤中Mn的含量约为80μg/g。现用AAS法测定其含量,并已知浓度1μg/mL Mn的吸光度为0.110。实验室现有100μ
g/mL Mn的标准液和25mL的容量瓶,请设计用标准曲线法测定该土壤中Mn的含量并写出计算公式。
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