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[主观题]

(1) 将含有杂质P的硅晶体提纯到杂质浓度ND=1012cm-3,估算此半导体中本征区和饱和区、饱和区与冻结区的交界温

(1) 将含有杂质P的硅晶体提纯到杂质浓度ND=1012cm-3,估算此半导体中本征区和饱和区、饱和区与冻结区的交界温度。(2) 将含有杂质P的硅晶体重掺杂到ND=1019cm-3,估算此半导体中本征区和饱和区、饱和区与冻结区的交界温度。

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第1题
分布提纯是在原铝精炼过程中,采用化学方法除去()的杂质。其原理是使杂质元素和硼形成不溶于铝液的硼化物。

A.K=1

B.K>1

C.K<1

D.K≈1

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第2题
由二氧化钛(其中含有杂质铁、硅、铝、钒等氧化物)采用氯化法可以制得海绵状钛。金属钛的制备流程简述

由二氧化钛(其中含有杂质铁、硅、铝、钒等氧化物)采用氯化法可以制得海绵状钛。金属钛的制备流程简述如下:

现就上述过程提出若干问题,请回答:

为什么不采用由TiO2直接通Cl2来制备TiCl4,加入C的目的是什么?

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第3题
硝酸银是一种重要的化学试剂,它的制备一般是将银溶于硝酸,蒸发并结晶得到无色透明的晶体AgNO3,但原料银中含

硝酸银是一种重要的化学试剂,它的制备一般是将银溶于硝酸,蒸发并结晶得到无色透明的晶体AgNO3,但原料银中含杂质铜和铁,如何利用沉淀反应除去产品中的杂质硝酸铜和硝酸铁?

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第4题
某同学在确定所合成的K3[Fe(C2O4)3]·3H2O晶体中FeC2O4杂质的含量时,进行了以下实验:将一定量样品加入稀硫酸

某同学在确定所合成的K3[Fe(C2O4)3]·3H2O晶体中FeC2O4杂质的含量时,进行了以下实验:将一定量样品加入稀硫酸中,微热溶解后用0.0500mol·dm-3的高锰酸钾溶液滴定,用去108.00cm3;再加入适量还原剂将三价铁还原为二价铁后,用KMnO4溶液滴定,恰好用去20.00cm3

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第5题
在二氧化碳提纯工序中,精馏的目的是()

A.彻底分离水

B.分离CH4,丙烷及氮气等杂质

C.分离大部分沸点高于二氧化碳的杂质组分

D.分离硫化物

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第6题
提纯装置中,提馏塔顶部排放的尾气中,其杂质含量最高的为()

A.CH4

B.N2

C.C2H6

D.O2

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第7题
依据掺入杂质类型不同,高纯硅分为 _______________和_______________。

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第8题
钢中常存的有害杂质元素是()。

A.锰和硅

B.硫和磷

C.硅和硫

D.锰和磷

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第9题
溶质原子,不管它们是杂质还是有意添加的,都会使晶体基体发生较大范围的结构扰乱,形成固溶体。()
溶质原子,不管它们是杂质还是有意添加的,都会使晶体基体发生较大范围的结构扰乱,形成固溶体。()

A、错误

B、正确

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第10题
硅、锰、磷对钢来说是有益元素,氧、氢、硫则是有害杂质。()

硅、锰、磷对钢来说是有益元素,氧、氢、硫则是有害杂质。()

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第11题
主教材表6.9中给出了硅中掺杂Ⅲ,V族杂质以后的杂质电离能,根据主教材表6.9中的电离能表达式,计算出其中的有
效质量m*,这个有效质量与什么有关?并与硅的其他有效质量进行对比。
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