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更多“荧光光谱分析中的主要光谱干扰是()。”相关的问题
第1题
在X射线荧光光谱分析中,制作玻璃片使用的坩埚及模具的材料主要是()其比例是95%:5%。
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第2题
X射线荧光光谱分析是相对分析方法,需要通过测试()来确定待测样品的含量。
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第3题
在光谱化学分析中,一般将干扰分为两类即()。
A.化学干扰和电场干扰
B.光谱干扰和非光谱干扰
C.粒子干扰和电磁干扰
D.电磁干扰和辐射干扰
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第4题
正比计数器(流气式或封闭式)、()、和半导体计数器是X射线光谱分析中常用的三种探测器。
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第5题
光电直读光谱分析中试样的激发点在试样打磨面的()。
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第6题
从模具中取出的锥形试样,一般在高度方向的()处截取样品进行直读光谱分析。
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第7题
化学发光与分子荧光均为第一激发态的最低振动能级跃至基态中各振动能级产生的光辐射,它们的主要区别在于()
A . 分子的电子层不同
B . 产生光辐射的能源不同
C . 跃至基态中的振动能级不同
D . 无辐射弛豫的途径不同
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第8题
X射线荧光光谱仪探测器的主要技术指标是()。
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第9题
分子荧光与分子磷光均为第一激发态的最低振动能级跃至基态中各振动能级产生的光辐射,它们的主要区别在于()
A . 产生光辐射的能源不同
B . 激发态能态的多重度不同
C . 跃至基态中的振动能级不同
D . 无辐射弛豫的途径不同
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第10题
X线摄影检查主要应用X线的特性是:()
A.穿透性
B.荧光效应
C.摄影效应
D.电离效应
E.生物效应
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