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[主观题]

在芯片的制造过程中首先需要对芯片进行减薄与切割,详细叙述芯片切割的几种方式与以及他们的工艺流程。

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第1题
气中的一个小尘埃将影响整个芯片的()性、()率,并影响其电学性能和()性,所以半导体芯片制造工艺需在超净厂房内进行。
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第2题
下列描述正确的是()。

A.BGA球栅格阵列封装:球栅阵列封装技术(BGA),是芯片级封装的意思。BGA封装是最新一代的内存芯片封装技术,其技术性能又有了新的提升。BGA封装可以让芯片面积与封装面积之比超过1:1.14,已经相当接近1:1的理想情况

B.在芯片测试分选完成后,需要对合格芯片进行外观检查。所采用的方式的是机器检测,从而保证产品包装的合格率

C.编带收料时,等载带进行热封后,为方便运输和储存,需要用卷盘进行收料。载带每移动一格,收料盘也随之做逆时针旋转,将完成热封的载带紧密地缠绕在卷盘上

D.在芯片测试分选完成后,需要对合格芯片进行外观检查。所采用的方式的是机器检测,从而保证产品包装的合格率

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第3题
在使用中8253芯片之前,不需要对其进行初始化编程。()
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第4题
某智能芯片制造公司采用分批成本法进行成本核算,当月,由于生产过程中的杂质,导致个别产品损坏。该公司没有对这类时有发生的事情采取任何措施。下列对于这种类型损失处理正确的是()

A.该损失属于异常损失,应记入制造费用

B.该损失属于正常损失,应记入制造费用

C.该损失属于异常损失,应记入异常账户损失费用

D.该损失属于正常损失,应记入在产品存货账户

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第5题
()具有三条薄的短端子,分布在晶体管的一端,晶体管芯片粘贴在较大的铜片上,以增加散热能力。

A.SOT-23;

B.SOT-89;

C.SOT-143;

D.TO-252;

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第6题
现在所生产的存储器芯片的容量是有限的,在字数或字长方面与实际存储器的要求都有很大差距,所以需
要在_________和_____________两方面进行扩充,才能满足实际存储器的容量要求。

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第7题
下列关于UDIMM,RDIMM,LRDIMM的对比说法正确的是()

A.相比于RDIMM,LRDIMM降低了内存总线的负载和功耗,又提供了内存的最大支持容量

B.UDIHM需保证CPU到每个内存颗粒之间的传输距离相等,这样并行传输才有效,而这需要较高的制造工艺,因此UDIMM在容量和频率上都较低

C.UDIMM,无缓冲双列直插内存模块,地址和控制信号不经缓冲器,直接到达DIMM上的DRAM芯片,因此价格便宜

D.RDIMM支持Buffered模式和高性能的Registered模式,较UDIMM更为稳定,同时支持服务器内存最高容量

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第8题
现在芯片的制造技术正在向什么方向发展?应当如何加快其发展速度?
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第9题
日本生产的电子计算机,其电子芯片来自美国,外壳来自印度,在新加坡或印尼组装,然后在日本的神户或横滨印上“日本制造”的牌子,远销全球。这一现象主要表现了市场经济的()特点

A.竞争性

B.开放性

C.平等性

D.法制性

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第10题
EPROM浮栅上的电荷泄放需要在芯片的玻璃窗上进行紫外线照射。()此题为判断题(对,错)。
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第11题
在启动Windows过程中涉及到的硬件部件有()

A.BIOS芯片

B.键盘

C.CPU

D.硬盘

E.显示缓存

F.内存储器

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