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[判断题]

FMM的含义是精细金属掩膜版,用于蒸镀AMOLED器件发光层,形成特定Pattern()

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第1题
光刻是将()上的几何图形转移光刻胶上的工艺。

A.光刻胶

B.掩膜版

C.曝光机

D.晶圆

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第2题
说明版图层、掩膜层与工序的关系。
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第3题
在集成电路中,将掩膜版上的图形位置及几何尺寸转移到光刻胶上的工艺是()。

A.薄膜制备

B.光刻

C.刻蚀

D.金属化

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第4题
蒸镀的过程为()。

A.蒸发—气相质量输运—淀积成膜

B.离化—气相质量输运—淀积成膜

C.蒸发—离化—淀积成膜

D.离化—挥发—淀积成膜

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第5题
真空蒸镀法中,为提高膜的附着强度,要采取一定的措施以下哪一项措施对提高膜的附着强度没有效果()。

A.采用较大的蒸发角度

B.选择适宜的工作压力

C.选择适当的膜厚

D.提高基片温度

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第6题
电子束光刻主要用于制作掩膜。()
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第7题
蒸镀纯金属膜中,90%是______。
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第8题
PCV的具体方法有()。

A.电阻蒸镀

B.电子束蒸镀

C.激光蒸镀

D.LCVD

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第9题
溅射相对蒸镀具有不少优势,但某些特殊材质薄膜的制备上电子束蒸镀更有优势。()
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第10题
PVD的种类有()。

A.真空蒸镀

B.等离子体

C.溅射

D.二氧化硅

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第11题
气相沉积技术工艺方法有A真空蒸镀B溅射镀C离子镀D化学气相沉积

气相沉积技术工艺方法有

A真空蒸镀

B溅射镀

C离子镀

D化学气相沉积

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