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[单选题]
在集成电路中,将掩膜版上的图形位置及几何尺寸转移到光刻胶上的工艺是()。
A.薄膜制备
B.光刻
C.刻蚀
D.金属化
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A.薄膜制备
B.光刻
C.刻蚀
D.金属化
在欧氏平面内已知A(ai)、B(bi)(i=1,2,3),为两个不同点且a3=b3=1. (1)说明la+mb一点中Z,m的几何意义. (2)说明la+mb,ma+lb两点的位置关系.